在硫酸槽液中，陽極氧化可以在很大的濃度范圍內進行。工業上實際使用的硫酸濃度需要從操作性氧化膜性能的很多方面進行選擇和確定。

  主要影響因素:硫酸濃度和額外電壓，陽極氧化是在氧化膜底部的阻擋層上進行的，生成氧化膜所需的額外電壓大多取決于阻擋層的厚度。在低濃度硫酸的槽液中，陽極氧化膜溶解較少，阻擋層厚度不減薄，因此需要使用高電壓。另一方面，在高濃度槽液中，陽極氧化膜的溶解度較大，因此阻擋層較薄，加低電壓。

  硫酸濃度和氧化膜性能。在硫酸槽液中，隨著硫酸濃度的增加，陽極氧化膜的耐腐蝕性逐漸降低，當硫酸濃度超過20%時，砂的耐磨性明顯降低。

  在陽極氧化過程中，隨著槽液中鋁溶存量的增加，硫酸槽液中溶存鋁的影響降低了陽極氧化膜的性能，因此，在JISH8601中，硫酸槽液中溶存鋁應在25g/L以下。